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首頁 > 新聞資訊 > 行業資訊鍍鉻棒鍍鉻液的兩種分類介紹
| 發布者：鍍鉻棒｜：哥林柱｜：廣東日鋼 發布時間：2014.06.18 |
工業設備中廣泛使用的鍍鉻棒，因此鍍鉻元素的特點，擁有很多優勢，不知道大家對于它的鍍鉻層了解多少呢？下面是鍍鉻棒鍍鉻液的兩種分類介紹。
①普通鍍鉻液
以硫酸根作為催化劑的鍍鉻溶液。鍍液中僅含有鉻酐和硫酸，成分簡單，使用方便，是目前應用最為廣泛的鍍鉻液。鉻酐和硫酸的比例一般控制在Cr03：H2SO4=100：1，鉻酐的濃度在150～450g/L之間變化。根據鉻酐濃度的不同，可分為高濃度（350～500g/L）、中濃度（150～250g/L）和低濃度（50～150g/L）鍍鉻液。習慣上把Cr03250g/L和H2SO42．5g/L的中等濃度鍍鉻液稱為"標準鍍鉻液"，又稱為"萬能鍍鉻液"，用于裝飾及功能性多種鍍鉻。低濃度的鍍鉻液電流效率高，鉻層的硬度也高，但覆蓋能力較差，主要用于功能性電鍍，如鍍硬鉻、耐磨鉻等；高濃度鍍液穩定，導電性好，電解時只需較低的電壓，覆蓋能力較稀溶液好，但電流效率較低，主要用于裝飾性鍍鉻及復雜件鍍鉻。
②鍍鉻軸復合鍍鉻液
以硫酸和氟硅酸作催化劑的鍍鉻液。氟硅酸的添加，使鍍液的電流效率、覆蓋能力和光亮范圍均比普通鍍鉻液有所改善，如陰極的電流效率可達到20%以上。然而，氟硅酸對陽極和陰極零件鍍不上鉻的部位及鍍槽的鉛襯均有較強的腐蝕作用，必須采取一定的防護措施，其襯里和陽極最好采用鉛一錫合金。此鍍液主要用于滾鍍鉻。
文章來源：http://www.21stcn.com/ProductList.html
①普通鍍鉻液
以硫酸根作為催化劑的鍍鉻溶液。鍍液中僅含有鉻酐和硫酸，成分簡單，使用方便，是目前應用最為廣泛的鍍鉻液。鉻酐和硫酸的比例一般控制在Cr03：H2SO4=100：1，鉻酐的濃度在150～450g/L之間變化。根據鉻酐濃度的不同，可分為高濃度（350～500g/L）、中濃度（150～250g/L）和低濃度（50～150g/L）鍍鉻液。習慣上把Cr03250g/L和H2SO42．5g/L的中等濃度鍍鉻液稱為"標準鍍鉻液"，又稱為"萬能鍍鉻液"，用于裝飾及功能性多種鍍鉻。低濃度的鍍鉻液電流效率高，鉻層的硬度也高，但覆蓋能力較差，主要用于功能性電鍍，如鍍硬鉻、耐磨鉻等；高濃度鍍液穩定，導電性好，電解時只需較低的電壓，覆蓋能力較稀溶液好，但電流效率較低，主要用于裝飾性鍍鉻及復雜件鍍鉻。
②鍍鉻軸復合鍍鉻液
以硫酸和氟硅酸作催化劑的鍍鉻液。氟硅酸的添加，使鍍液的電流效率、覆蓋能力和光亮范圍均比普通鍍鉻液有所改善，如陰極的電流效率可達到20%以上。然而，氟硅酸對陽極和陰極零件鍍不上鉻的部位及鍍槽的鉛襯均有較強的腐蝕作用，必須采取一定的防護措施，其襯里和陽極最好采用鉛一錫合金。此鍍液主要用于滾鍍鉻。
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